中国深圳团队完成 EUV 光刻机原型机，挑战西方芯片技术垄断#

路透社独家报道，中国科学家在深圳一处高度保密的实验室内，成功建造了一台极紫外光刻机（EUV）原型机，该设备能够生产用于人工智能、智能手机和军用武器的尖端半导体芯片。这台原型机于 2025 年初完工，目前正在测试阶段，占据了几乎整个工厂车间的空间。 该项目由前荷兰半导体巨头 ASML 的工程师团队通过逆向工程技术完成。虽然原型机已能成功产生极紫外光，但尚未制造出可用芯片。中国政府设定了 2028 年生产可用芯片的目标，但知情人士认为 2030 年更为现实。这一突破标志着中国在实现半导体自主化方面取得重大进展，时间表比分析师此前预期提前了数年。华为在协调全国相关企业和科研院所方面发挥关键作用。

路透社